ダイオキシン類対策特別措置法により定められた特定施設の一覧表
最終更新日：2020年10月07日
特定施設
「特定施設」とは汚水または廃液を排出する施設として水質汚濁防止法、ダイオキシン類対策特別措置法の二つの法律に基づき定められた次の施設です。
| 1 | 硫酸塩パルプ(クラフトパルプ)または亜硫酸パルプ(サルファイトパルプ)の製造の用に供する塩素または塩素化合物による漂白施設 |
| 2 | カーバイド法アセチレンの製造の用に供するアセチレン洗浄施設 |
| 3 | 硫酸カリウムの製造の用に供する施設のうち、廃ガス洗浄施設 |
| 4 | アルミナ繊維の製造の用に供する施設のうち、廃ガス洗浄施設 |
| 5 | 担体付き触媒の製造(塩素または塩素化合物を使用するものに限る。)の用に供する焼成炉から発生するガスを処理する施設のうち、廃ガス洗浄施設 |
| 6 | 塩化ビニルモノマーの製造の用に供する二塩化エチレン洗浄施設 |
| 7 |
カプロラクタムの製造(塩化ニトロシルを使用するものに限る。)の用に供する施設のうち、次に掲げるもの (イ)硫酸濃縮施設 (ロ)シクロヘキサン分離施設 (ハ)廃ガス洗浄施設 |
| 8 |
クロロベンゼンまたはジクロロベンゼンの製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの (イ)水洗施設 (ロ)廃ガス洗浄施設 |
| 9 |
4-クロロフタル酸水素ナトリウムの製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの (イ)ろ過施設 (ロ)乾燥施設 (ハ)廃ガス洗浄施設 |
| 10 |
2・3-ジクロロ-1・4-ナフトキノンの製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの (イ)ろ過施設 (ロ)廃ガス洗浄施設 |
| 11 |
8・18-ジクロロ-5・15-ジエチル-5・15-ジヒドロジインドロ[3・2-b：3'・2'-m]トリフェノジオキサジン(別名ジオキサジンバイオレット。ハにおいて単に「ジオキサジンバイオレット」という。)の製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの。 (イ)ニトロ化誘導体分離施設及び還元誘導体分離施設 (ロ)ニトロ化誘導体洗浄施設及び還元誘導体洗浄施設 (ハ)ジオキサジンバイオレット洗浄施設 (ニ)熱風乾燥施設 |
| 12 |
アルミニウムまたはその合金の製造の用に供する焙焼炉、溶解炉または乾燥炉から発生するガスを処理する施設のうち、次に掲げるもの (イ)廃ガス洗浄施設 (ロ)湿式集じん施設 |
| 13 |
亜鉛の回収(製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたものからの亜鉛の回収に限る。)の用に供する施設のうち、次に掲げるもの (イ)精製施設 (ロ)廃ガス洗浄施設 (ハ)湿式集じん施設 |
| 14 |
担体付き触媒(使用済みのものに限る。)からの金属の回収(ソーダ灰を添加して煤煙炉で処理する方法およびアルカリにより抽出する方法(煤煙炉で処理しないものに限る。)によるものを除く)の用に供する施設のうち、次に掲げるもの (イ)ろ過施設 (ロ)精製施設 (ハ)廃ガス洗浄施設 |
| 15 |
廃棄物焼却炉(大気基準適用施設と同じ)から発生するガスを処理する施設のうち、次に掲げるものおよび当該廃棄物焼却炉において生ずる灰の貯留施設であ って汚水または廃液を排出するもの (イ)廃ガス洗浄施設 (ロ)湿式集じん施設 廃棄物焼却炉の大気基準適用施設とは、火床面積0.5平方メートル以上(2以上の焼却炉の場合は面積の合計)、または1時間当たりの焼却能力が50キログラム以上(2以上の焼却炉の場合は能力の合計)のもの |
| 16 | 廃PCBなどまたはPCB処理物の分解施設、PCB汚染物またはPCB処理物の洗浄施設または分離施設 |
| 17 |
フロン類(特定物質の規制等によるオゾン層の保護に関する法律施行令別表1の項、3の項および6の項に掲げる特定物質をいう。)の破壊(プラズマを用いて破壊する方法そのほか環境省令で定める方法によるものに限る。)の用に供する施設のうち、次に掲げるもの (イ)プラズマ反応施設 (ロ)廃ガス洗浄施設 (ハ)湿式集じん施設 |
| 18 | 下水道終末処理施設(第1号から前号までおよび次号に掲げる施設に係る汚水または廃液を含む下水を処理するものに限る。) |
| 19 | 第1号から第17号までに掲げる施設を設置する工場または事業場から排出される水(第1号から第17号までに掲げる施設に係る汚水もしくは廃液または当該汚水もしくは廃液を処理したものを含むものに限り、公共用水域に排出されるものを除く。又、前号に掲げるものを除く。)の処理施設 |