水質汚濁防止法により定められた特定施設の一覧表3
最終更新日：2024年10月22日
特定施設
「特定施設」とは汚水または廃液を排出する施設として水質汚濁防止法、ダイオキシン類対策特別措置法の二つの法律に基づき定められた次の施設です。
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メタン誘導品製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの (イ)メチルアルコールまたは四塩化炭素の製造施設のうち、蒸留施設 (ロ)ホルムアルデヒド製造施設のうち、精製施設 (ハ)フロンガス製造施設のうち、洗浄施設及びろ過施設 |
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有機顔料または合成染料の製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの (イ)ろ過施設 (ロ)顔料または染色レーキ製造施設のうち、水洗施設 (ハ)遠心分離機 (ニ)廃ガス洗浄施設 |
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合成樹脂製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの (イ)縮合反応施設 (ロ)水洗施設 (ハ)遠心分離機 (ニ)静置分離器 (ホ)弗素樹脂製造施設のうち、ガス冷却洗浄施設及び蒸りゅう施設 (ヘ)ポリプロピレン製造施設のうち、溶剤 蒸りゅう施設 (ト) 中圧法または低圧法によるポリエチレン製造施設のうち、溶剤回収施設 (チ)ポリブテンの酸またはアルカリによる処理施設 (リ)廃ガス洗浄施設 (ヌ) 湿式集じん施設 |
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合成ゴム製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの (イ)ろ過施設 (ロ)脱水施設 (ハ)水洗施設 (ニ)ラテックス濃縮施設 (ホ)スチレン･ブタジエンゴム､ニトリル・ブタジエンゴムまたはポリブタジエン ゴムの製造施設のうち、静置分離器 |
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有機ゴム薬品製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの (イ)蒸留施設 (ロ)分離施設 (ハ)廃ガス洗浄施設 |
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合成洗剤製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの (イ)廃酸分離施設 (ロ)廃ガス洗浄施設 (ハ)湿式集じん施設 |
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31～36号以外の石油化学工業 (石油または石油副生ガス中に含まれる炭化水素の分解､分離その他の化学的処理により製造される炭化水素または炭化水素誘導品の製造業をいい、51号を除く。) の用に供する施設であって、次に掲げるもの (イ)洗浄施設 (ロ)分離施設 (ハ)ろ過施設 (ニ)アクリロニトリル製造施設のうち、急冷施設及び蒸留施設 (ホ)アセトアルデヒド､ アセトン､ カプロラクタム､ テレフタル酸またはトリレンジアミンの製造施設のうち、蒸留施設 (ヘ)アルキルベンゼン製造施設のうち、酸またはアルカリによる処理施設 (ト)イソプロピルアルコール製造施設のうち、蒸留施設及び硫酸濃縮施設 (チ)エチレンオキサイドまたはエチレングリコールの製造施設のうち、蒸留施設及び濃縮施設 (リ)2－エチルヘキシルアルコールまたはイソブチルアルコールの製造施設のうち、縮合反応施設及び蒸留施設 (ヌ)シクロヘキサノン製造施設のうち、酸またはアルカリによる処理施設 (ル)トリレンジイソシアネートまたは無水フタル酸の製造施設のうち、ガス冷却洗浄施設 (ヲ)ノルマルパラフィン製造施設のうち、酸またはアルカリによる処理施設及びメチルアルコール蒸留施設 (ワ)プロピレンオキサイドまたはプロピレングリコールのけん化器 (カ)メチルエチルケトン製造施設のうち、水蒸気凝縮施設 (ヨ)メチルメタアクリレートモノマー製造施設のうち､反応施設及びメチルアルコール回収施設 (タ)廃ガス洗浄施設 |
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石けん製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの (イ)原料精製施設 (ロ)塩析施設 |
| 38-2 | 界面活性剤製造業の用に供する反応施設（1,4-ジオキサンが発生するものに限り、洗浄装置を有しないものを除く。） |
| 39 |
硬化油製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの (イ)脱酸施設 (ロ)脱臭施設 |
| 40 | 脂肪酸製造業の用に供する蒸留施設 |
| 41 |
香料製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの (イ)洗浄施設 (ロ)抽出施設 |
| 42 |
ゼラチンまたはにかわの製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの (イ)原料処理施設 (ロ)石灰づけ施設 (ハ)洗浄施設 |
| 43 | 写真感光材料製造業の用に供する感光剤洗浄施設 |
| 44 |
天然樹脂製品製造業の用に供する施設であって、次に掲げるもの (イ)原料処理施設 (ロ)脱水施設 |